The MYSmart series offers a wide range of specialized dispensing and coating solutions. 본 발명은 탄소복합재 대기압 플라즈마 표면 처리 장치에 관한 것으로, 특히 대기압 저온 플라즈마를 이용하여 탄소복합재의 표면을 처리하는 장치에 관한 것이다. 이 위에 터치스크린이 있는 . 본 연구는 대면적 상압 플라즈마 장치를 개발해 경제성있는 유연소자 표면처리용 장비개발을 최종목표로 한다.11. Dispensing and coating. 상압 플라즈마에서 RF Power의 출력 전력과 처리 시간에 따른 변화 및 영향도를 함께 조사하고, 플라즈마 표면 처리 실험을 하였다. 본 연구는 대면적 상압 플라즈마 장치를 개발해 경제성있는 유연소자 표면처리용 … Sep 12, 2012 · - Al, Mg 등 합금의 사용량 증가에 따른 내구성 향상 표면처리기술 및 용접 후 열처리 기술 등이 필요.유전체장벽방전.1. 방전 전극은 금속 전극에 . 대면적/고속 표면처리용 상압 플라즈마 장비개발.
2010-12-15.12 3-2. 연구수행 내용 및 결과 . 대기압 플라즈마 발생기술 및 발생기 설계 . 8:05. 플라즈마 표면처리 … 본 발명은 플라즈마를 이용한 표면 처리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 관형 플라즈마 전극을 이용해 피처리물을 관형 전극 내부로 통과시키면서 처리하는 플라즈마 표면 처리 장치에 관한 것이다.
대기압 플라즈마 살균 특성 평가 . 등록일자. 2021 · 플라즈마기술의 농업분야 활용과 해외사례 세계 농식품산업 동향∙1 플라즈마기술의 농업분야 활용과 해외사례 김 대 웅*· 강 우 석**1) 1. KR20030063380A KR10-2003-7006459A KR20037006459A KR20030063380A KR 20030063380 A KR20030063380 A KR 20030063380A KR 20037006459 A KR20037006459 A KR 20037006459A KR 20030063380 A … 본 발명은 에 관한 것으로, 그 구성은 상압 플라즈마 장치에 있어서, 전압을 인가하는 고전압 전극; 및 상기 고전압 전극 하측에 마련되는 가스 공급부;로 이루어지며, 상기 가스 공급부는 공정가스 공급과 전압 방출을 균일하게 할 수 있게 외주면이 각 형태를 갖게 한다. 본 연구는 대면적 상압 플라즈마 장치를 개발해 경제성있는 유연소자 표면처리용 장비개발을 최종목표로 한다. 본 발명은 유전체관의 내부를 통과하는 공기가 방전영역에서 효율적으로 플라즈마처리됨으로써 플라즈마발생에 필요한 에너지의 효율적 사용이 가능한 구조의 플라즈마 처리장치를 제공한다.
나의 히어로 아카데미아 등장 인물 - 본 발명은 상압플라즈마를 이용한 폴리이미드 필름의 표면처리방법에 관한 것이다. Plasma 기술은 고분자, 나노 입자 또는 나노 다공 구조물, 직물 표면, 에칭 등의 합성, 가공, 처리, 증착 . 2023 · #플라즈마표면처리#플라즈마기술#대기압플라즈마#플라즈마장치#플라즈마장치#플라즈마업체#상압플라즈마#코로나처리기 #플라즈마처리장치 , 오일제거 플라즈마 기술 #플라즈마세정 #를파즈마장치#플라즈마장비#세정 플라즈마장비, 본 발명은 분무화 표면 처리제를 영족 공정 기체에서 발생된 비-평형 대기압 플라즈마에 혼입하고, 처리되는 상기 표면은 분무화 표면 처리제를 함유하는 대기압 플라즈마와 접촉하도록 배치하며, 저비율의 질소를 공정 기체에 혼입시킴으로써, 상기 표면에 형성된 피막의 입자 함량이 감소됨을 .10 2-1. 본 발명은, 유전체관과, 유전체관의 내주면에 접촉하도록 삽입된 방전극을 포함하되, 상기 방전극은 . 코로나 처리는 플라즈마 처리에 비해 높은 … 대기압플라즈마 응용 표면처리 기술 및 공정 장비 개발에 관한 연구 과제기간 2005 총연구비 .
이 중 유전체 장벽 방전은 기존의 진공플라즈마에 비해 100~1000배 이상 . 도 1에서 (a) ~ (c)는 각각 비교예와 본 발명의 실시예에 따른 탄소나노섬유의 SEM 이미지이다. 2021 · 대기압 플라즈마(atmospheric-pressure plasma), 혹은 저온 플라즈마(cold plasma 또는. 제 2 전극은 상기 제 1 전극의 길이방향을 따라, 상기 제 1 .상압플라즈마 실험 장치 . 대면적/고속 표면처리용 상압 플라즈마 장비개발. KR20090106820A - 상압플라즈마 처리장치 - Google Patents (주)누리텍은 진공 고분자 코팅 기술로 축적된 진공 장치 노하우를 바탕으로 고객의 요구에 부응하기 위하여 플라즈마를 이용한 진공장치를 자체개발하여 상용화 하였습니다. . 10. 본 발명의 플라즈마 처리 장치는 전원을 공급받아 방전하는 고압전극을 양측에서 지지하며 상기 고압전극의 단부에 대응하는 경사면이 마련된 접지전극과, 상기 접지전극의 단부측에 형성되어 상기 경사면을 따라 형성된 복수의 가스 분출관과 연통하고 혼합가스가 공급되는 혼합 챔버와, 상기 . 또한 플라즈마 처리 및 열처리 공정에 영향을 . 또한, 본 발명에 따른 방법은 진공이 필요 없는 상온 .
(주)누리텍은 진공 고분자 코팅 기술로 축적된 진공 장치 노하우를 바탕으로 고객의 요구에 부응하기 위하여 플라즈마를 이용한 진공장치를 자체개발하여 상용화 하였습니다. . 10. 본 발명의 플라즈마 처리 장치는 전원을 공급받아 방전하는 고압전극을 양측에서 지지하며 상기 고압전극의 단부에 대응하는 경사면이 마련된 접지전극과, 상기 접지전극의 단부측에 형성되어 상기 경사면을 따라 형성된 복수의 가스 분출관과 연통하고 혼합가스가 공급되는 혼합 챔버와, 상기 . 또한 플라즈마 처리 및 열처리 공정에 영향을 . 또한, 본 발명에 따른 방법은 진공이 필요 없는 상온 .
KR20090052129A - 상압 플라즈마 장치 - Google Patents
High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules US9793148B2 (en) 2011-06-22 2010 · 폴리올레핀 폴리머의 표면 활성화를 위한 화염처리의 기초. 대기압 플라즈마 표면처리 장비 플라즈마 표면처리 표면세정 plasma 클리닝 더보기 안녕하세요. 본 발명은 표면처리를 위한 플라즈마 방전장치에 관한 것으로, 특히 복잡한 3차원 형상 피처리물이나 열에 약한 재질의 표면을 효과적으로 처리하기 위해 분사관을 구비한 플라즈마 표면처리장치에 관한 것이다.표면처리. 3. 상압 플라즈마 처리 장치에서 기판을 가열하여 공정 온도를 일정하게 유지할 수 있는 상압 플라즈마 처리 장치가 개시된다.
1. 이를 위해 본 발명은 중공의 몸체, 중공의 몸체 내부로 가스를 . 개발내용 및 결과 상압 플라즈마 발생장치를 구현하고 분광분석법을 적용하는 APP-OES를 구현 APP-OES의 크기를 위해 50W급 이하의 파워를 사용하려는 . 대기압 플라즈마 응용 표면처리 및 공정장비 개발. 이것은 평균적으로 전기적으로 중성을 유지하기에 충분한 입자 밀도를 가진 . -1단계(2년후) : 저온(∼250℃) 및 상압(∼760 Torr) 플라즈마 표면처리 Prototype 시스템 구축 및 공정 응용시험 -2단계(5년후) : 저온(상온∼150℃)/상압(∼760 Torr) 플라즈마 표면처리 … 금속소재 표면처리를 위한 플라즈마 전해연마 저온/상압 플라즈마 표면처리 기술 친환경 전해플라즈마를 이용한 고기능성 금속소재 개발 전해연마 방법을 적용한 자동차 배기구 테일트림 고방청 표면처리 기술 개발 토치형 상압 플라즈마 방전기체를 LB 배지의 가운데 부분을 조사하 였다.인하대 가해자 얼굴
소개 물질의 네 번째 상태를 활용하는 플라즈마 기술은 다양한 응용 분야로 인해 수많은 과학 및 산업 . 플라즈마 기술 자료 논문자료 상담/문의 검색: Loading.11. Created Date: 5/31/2007 4:25:57 PM [보고서] 저온/상압 플라즈마 표면처리 기술 함께 이용한 콘텐츠 닫기 상세정보조회 원문조회 닫기 전체 참여 연구원 상세정보 참여 연구원 과제요약정보 과제명(ProjectTitle) : -연구책임자(Manager) : -과제기간(DetailSeriesProject . 2013 · 플라즈마 표면처리, 반도체·D/P·LED 핵심기술 기술의 개요 기술의 정의 및 분류 플라즈마는 가스 원자 또는 분자 등이 전기에너지를 공급받은 자유전자에 의해 이온화, 해리 등의 반응을 일으켜 이온, 반응성 라디칼 등이 생성돼 군집해있는 상태를 지칭하며 플라즈마 응용 표면처리 기술은 . 화염처리는 자동차 산업, 포장 산업, 프린팅 산업, 유리 산업, 코팅 산업, 접착 산업, 압출 산업, 라미네이팅 산업, 의료/제약 산업등 넓은 분야에 적용되는 .
2013 · 반도체·D/P분야 플라즈마 표면처리 韓기술력 세계 최고 D/P·PV 분야 대면적 플라즈마 기술 개발이 핵심 경쟁력 반도체 공정으로의 응용기술 반도체 제조 시 한정된 … 차세대 디스플레이로 주목받는 유연기판의 상용화를 위해 저가의 공정개발이 요구된다. - 플라스틱,각종필름,특수 필름 등 다양한 소재의 표면을 활성화 시켜,친수성 향상,접착력증가,표면 세정등 다양 한 표면적변화를 통한 표면 개질 장치 2. 개질 . 고분자 재질은 PC, PET, EVA 를 사용하였으며 표면자유에너지 변화를 관찰하기 위해 Di water 와 diiodomethane 을 사용하여 접촉각을 측정하였다. 본 발명의 플라즈마를 이용한 임플란트 유닛의 표면처리방법은 피처리물 수용선반에 임플란트 유닛이 탑재되는 단계; 상기 피처리물 수용선반이 플라즈마발생장치에 투입되는 단계; 및 상기 플라즈마발생장치를 작동시켜 임플란트 유닛의 표면이 플라즈마 표면처리되는 단계;를 포함하고, 본 .K.
균일한 상압 플라즈마 발생장치가 개시된다. Created Date: 4/12/2011 10:22:06 AM öl-Þ oil 01 ymeric sr 11 ION SOURCE ION BEAM 1989. KR20070066853A KR1020060105439A KR20060105439A KR20070066853A KR 20070066853 A KR20070066853 A KR 20070066853A KR 1020060105439 A KR1020060105439 A KR 1020060105439A KR 20060105439 A KR20060105439 A KR … 용어. KR102202748B1 - 탄소복합재 대기압 플라즈마 표면 처리 장치 - Google Patents . 7 1--1-71-01: RIBE(Reactive Ion Beam Etching), CAIBE(Chemically Assisted Ion Beam Etching), 연구목표 (Goal) : 1) 기술개발목표소재의 표면 기능성 향상을 위한 플라즈마 응용 표면처리 기술개발상압 저온 플라즈마 소스 기술 및 플라즈마 평가 기술 개발연속적으로 처리할 수 있는 플라즈마 반응기 설계 기술 개발2) 인력양성목표본 사업을 통하여 총 사업 .코로나 표면처리장치 제조 기술 - 산업용 장비에 필요한 고전압 DC 전원장치, AC 전원장치,PULSE 전원장치 등을 고객이 . 초소수성 표면 3.(3) 이 때문에 상압플라즈마를 이용한 표면처리에 관한 연구가 활 발히 진행되고 있는 실정이다. 2007 · 저온/상압 플라즈마 표면처리기술은 열변형 및 공정 Space의 제한이 없으며 환경친화적인 특성을 갖고 있어 21세기형 clean Technology로 평가되고 있다. · 표면처리의응용에적합한방전이가능하다 상압플라즈마를구현하는방법으로는유전. 지금 간단하게 저희 주력 제품인 에어플라즈마를 소개해 드리겠습니다.500mm급의 균일한 플라즈마를 발생하기 위한 반응기 구조 설계기술을 확보하고, 안정적인 방전 . 런닝맨 여장 어플쓴 김종국=꾸민 박세리남장 송지효=엑소 6. 저온/상압 플라즈마 표면처리 기술. 라즈마 처리는 세척 및 오염 제거, 표면 컨디셔닝 및 접착 촉진을 제공하지만 공정을 … 2021 · 한국진공학회 본 연구에서는 상압 플라즈마를 발생시켜 고분자 재료의 표면 자유에너지와 접착력의 변화를 조사하였다. 2020 · 면,플라즈마제조공정에의해만들어진전자제품속의반도체,PDP등과같은 많은제품들을간접적으로도끊임없이접하고있다. 본 발명의 실시예에 따른 상압 플라즈마 발생장치는 제 1 전극, 제 2 전극, 및 가스공급부재를 포함한다. Let's solve your problems together with Plasma Plasma surface treatment, Plasma sterilization technology sends us into the future 본 발명은 복수개의 글래스 원판에 플라즈마 처리를 진행하는 상압 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 복수개의 플라즈마 발생부가 정의된 챔버와, 상기 각 플라즈마 발생부별로 위치한 복수개의 기판들 및 상기 각 플라즈마 발생부별로 서로 대향된 전극 쌍과, 상기 각 전극 쌍의 일측 전극에 . 상압 플라즈마 표면처리에 의한 고분자 재질의 접착특성 변화
6. 저온/상압 플라즈마 표면처리 기술. 라즈마 처리는 세척 및 오염 제거, 표면 컨디셔닝 및 접착 촉진을 제공하지만 공정을 … 2021 · 한국진공학회 본 연구에서는 상압 플라즈마를 발생시켜 고분자 재료의 표면 자유에너지와 접착력의 변화를 조사하였다. 2020 · 면,플라즈마제조공정에의해만들어진전자제품속의반도체,PDP등과같은 많은제품들을간접적으로도끊임없이접하고있다. 본 발명의 실시예에 따른 상압 플라즈마 발생장치는 제 1 전극, 제 2 전극, 및 가스공급부재를 포함한다. Let's solve your problems together with Plasma Plasma surface treatment, Plasma sterilization technology sends us into the future 본 발명은 복수개의 글래스 원판에 플라즈마 처리를 진행하는 상압 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 복수개의 플라즈마 발생부가 정의된 챔버와, 상기 각 플라즈마 발생부별로 위치한 복수개의 기판들 및 상기 각 플라즈마 발생부별로 서로 대향된 전극 쌍과, 상기 각 전극 쌍의 일측 전극에 .
수성실리콘 5 내지 1. 상압 플라즈마. 2021. 표면을 활성화 시켜,친수성 향상,접착력증가,표면 세정등 다양한 표면적변화를 통한 표면 개질 장치 2. 상압 플라즈마 처리 방법 및 그 장치 Download PDF Info Publication number KR20030063380A.12 3-1.
과제명 저온/상압 플라즈마 표면처리 기술 주관연구기관 고등기술연구원(사) Institute for Advanced Engineering 연구책임자 이근호 참여연구자 이기훈, 김윤기, 홍정미, 이해룡, 김덕재, 정진오, 김형진, 심연근, 백종문, 김상영 본 고안은 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 특히 안테나 및 안테나 전극을 사용함으로서 금속 전극 간에서 아크 발생이 일어나지 않으면서, 하나의 전원 장치로 여러 개의 금속 전극을 사용하는 플라즈마 Cell에서 동시에 플라즈마를 발생시킬 수 있으며, 발생되는 플라즈마는 비열의 코로나 . Some standard features across the range include precision robotics, high-accuracy laser detection systems, automated calibration routines, robust fiducial algorithms and more. AETP의 이창훈입니다. 최종목표상압 플라즈마 OES 센서(APP-OES)와 스펙트로미터를 이용한 분광분석 데이터 처리 모듈을 개발하여 상압 증착공정의 이상유무의 진단에 적용2. 2003 · 본 발명은 대면적 표면처리용 상압 플라즈마 표면처리장치에 관한 것으로서, 플라즈마를 배출하는 토치전극의 배열을 달리하여 대면적의 평판형태 또는 굴곡이 있는 대면적의 피처리물을 표면처리할 수 있도록 하는 데 그 목적이 있다. 있었으며, 상압 플라즈마 표면처리 공정은 필름 계면의 접착력을 크게 증가시켜 주는 것을 확인하였다.
15 3-3. 제 1 전극은 피처리물에 대향하도록 배치되며, 전원이 인가되는 전원 플레이트를 포함한다.. 플라즈마 처리 후에 배지를 16시간 배양한 후 광학 사진을 통 하여 정량분석을 하였다. 본 연구에서는 상압 플라즈마를 이용한 고속 직접접합공정을 위하여 상압 플라즈마와 함께 에어로젤 형태의 초순수 분사를 이용하여 표면처리 활성화 및 결함이 없는 실리콘 웨이퍼의 직접접합 공정을 개발하였다.5 nm 범위에 있도록 AFM에 의해 측정된 평균 표면 . KR200427719Y1 - 상압 플라즈마 발생장치 - Google Patents
2021 · 코로나 처리는 매끄럽고 균일 한 방전을 생성하거나 강도가 제한적인 인식 가능한 아크 및 스파이크를 생성 할 수 있으며, 이는 성 엘모 화재의 물리적 현상과 유사합니다. 이러한 … 2013 · 반도체·D/P분야 플라즈마 표면처리 韓기술력 세계 최고 D/P·PV 분야 대면적 플라즈마 기술 개발이 핵심 경쟁력 반도체 공정으로의 응용기술 반도체 제조 시 한정된 웨이퍼 상에서 더 많은 수율을 얻기 위해 플라즈마 공정에는 고밀도의 균일한 플라즈마 기술이 수반돼야 한다. 대기압 플라즈마 처리에 따른 표면특성 평가 . 둘 다 적절한 접착을 위해 표면을 준비하는 방법으로 기판을 공기 중의 전하에 노출시킵니다. 본 연구에서는 상압 플라즈마를 발생시켜 고분자 재료의 표면 자유에너지와 접착력의 변화를 조사하였다. Kim et al.엘-소드-비밀-던전
전류 조절에 의해 발생되는 플라즈마의 길이를 조절할 수 있을 뿐만 아니라 발생되는 플라즈마 길이가 길어 복잡한 3 차원 시편은 물론 시편 종류에 상관없이 금속, 반도체, 플라스틱, 세라믹 등 어떠한 재료도 손쉽게 세정 및 표면개질이 가능하다.20 4. 차세대 디스플레이로 주목받는 유연기판의 상용화를 위해 저가의 공정개발이 요구된다. 본 발명은 상압 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 본 발명에 의한 상압 플라즈마 처리장치는 상압 플라즈마 처리장치에 있어서, 직립되도록 구비되는 한 쌍의 전극; 및 상기 전극과 기판 사이에서 발생되는 자기장에 의해 이온을 상기 기판의 필름층에 조사시켜 요철을 형성시키는 자력 발생부; 를 . 2008 · Microwave 플라즈마를 이용한 표면처리 응용기술 마이크로웨이브 상압 플라즈마 표면처리/세정 시스템은 상압에서 1013-1015/cm3의 높은 전자 및 이온 중성 radical을 활용할 수 있으므로 증착효율을 크게 증대시킬 수 있는 장점이 있다. - 일본 기업의 국내 진출에 따라 가공 및 소재열처리 등 다방면에서의 품질규격이 높아질 것으로 예상됨에 따라 공정기술 및 장치기술의 향상이 기대.
보다 자세한 처리조건은 이미 보고된 논문에 표기되어 있다이플라즈마 표면처리의 경우는 두 개의 대항 전극을 이용하는 CCP(Capacitively coupled plasma) 방법을 이용하였으며 대항전극의 간격은 12cm 이었고 대항 전극에 13.생체재료와표면개질 본 발명은 플라즈마를 이용하여 대상체의 표면처리를 수행하는 플라즈마 표면처리 방법에 관한 것으로서, 특히, 피처리물의 표면이 개질된 상태에서 시술을 수행할 수 있도록 시술전에 피처리물을 외부 환경으로부터 밀폐한 상태에서 플라즈마 표면처리를 수행할 수 있는 플라즈마 표면처리 장치에 . Abstract: We studied the adhesion characteristics of polymer films (PC, … 본 발명은 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 특히 유전체의 채널 구조에 의해 높은 전기장을 형성하고 전극 내부에 낮은 압력을 만드는 공간을 만들어 고밀도 플라즈마를 발생시킬 수 있도록 구성되는 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 본 발명을 적용하면, 시편의 크기에 관계없이 . Fig. 기계연구원에서 독자 개발한 L전극형 양극성 구동 유전체장벽 플라즈마 반응기를 기반으로 대형화 가능성을 검토하였다. 본 발명에 따른 연속식 상압플라즈마장치를 이용한 탄소섬유의 표면처리방법은 플라즈마가 탄소섬유에 주는 영향력이 좋은 최적의 조건을 사용함으로써 높은 계면결합력을 갖는 탄소섬유를 제조할 수 있다.
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